具有上下侧壁接触之相变化记忆胞

摘要

本发明系揭露一种记忆装置与其制造方法。此处所揭露之记忆体装置包括记忆元件以及第一电极，第一电极包括环绕记忆元件之内表面，且第一电极之内表面于第一接触面接触该记忆元件。该装置亦包括相对于第一电极间隔设置之第二电极，第二电极包括一环绕记忆元件之内表面，且第二电极之内表面于第二接触面接触记忆元件。