发明名称 积体电路晶片中电路区块间之杂讯隔离
摘要 本发明系揭示一种积体电路(10),包括一p井区块区域(30),其由于低掺杂浓度而具有一高电阻系数,该p井区块区域在一基板之一区域中形成,用以提供一第一电路区块(22)与一第二电路区块(24)间之杂讯隔离。该积体电路(10)尚包括一防护区域(32),其于该p井区块区域(30)周围形成,用以提供该第一电路区块(22)与第二电路区块(24)间之杂讯隔离。
申请公布号 TWI427762 申请公布日期 2014.02.21
申请号 TW096103125 申请日期 2007.01.29
申请人 飞思卡尔半导体公司 美国 发明人 拉杜M 席凯瑞努;苏曼K 班奈及;欧琳L 哈汀
分类号 H01L27/04;H01L21/76 主分类号 H01L27/04
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 美国