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经营范围
发明名称
成膜装置,阻障膜制造方法
摘要
本发明之课题在于形成低电阻且覆盖范围优越的阻障膜。;其解决手段系在交互流出金属材料气体与反应性气体时,事先流出逆流防止气体与辅助气体,反应性气体与辅助气体会随和着逆流防止气体之流动,使之接触触媒材料,产生自由基。金属材料气体并不使之接触触媒材料,触媒材料不会劣化。亦可在自由基生成室35与反应室36之间配置淋浴板12,通过贯穿孔14对反应室36供给自由基。
申请公布号
TWI427701
申请公布日期
2014.02.21
申请号
TW096113636
申请日期
2007.04.18
申请人
爱发科股份有限公司 日本
发明人
原田雅通
分类号
H01L21/3205;H01L21/768
主分类号
H01L21/3205
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址
日本
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