一种掺杂铬的晶态钨薄膜及其制备方法

摘要

发明公开了一种掺杂铬的晶态钨薄膜及其制备方法，是利用磁控溅射设备直接连续溅射制备出掺杂铬的晶态钨薄膜，省略了后缀的退火处理。具体制备步骤为：将钨靶材放置在磁控溅射设备真空室中的直流溅射台上，把铬靶材放置在钨靶的溅射区内，基片放置在样品台上；对真空室抽真空至背底真空，向真空室充入氩气，并调节氩气流量和溅射气压，调节溅射直流和空载比；沉积溅射前预溅射一段时间后，调节基片至溅射区域，在设置的溅射沉积时间里开始制备掺杂铬的晶态钨薄膜。该工艺操作简单，薄膜为晶态，不脱落。磁控溅射得到的掺杂铬的晶态钨薄膜无需进行后续的热处理过程。

主权项

一种掺杂铬的晶态钨薄膜，其特征在于：该掺杂铬的晶态钨薄膜的峰值在[110]、[200]、[211]、[220]。