| 摘要 |
<p>Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine Elektronenstrahlprozessanordnung (100) bereitgestellt, aufweisend: eine Vakuumkammer (102); mindestens eine Elektronenstrahlquelle (104) zum Bereitstellen mindestens eines Elektronenstrahls in der Vakuumkammer (102), eine Ablenkvorrichtung (106) zum Ablenken des mindestens einen Elektronenstrahls in mehrere Auftreffbereiche in der Vakuumkammer (102); und mindestens einen Sensor (110) zum Erfassen einer in einem Auftreffbereich des mindestens einen abgelenkten Elektronenstrahls erzeugten Strahlungsemission und/oder Elektronenemission.</p> |
