发明名称 Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauelements und optoelektronisches Bauelement
摘要 Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauelements angegeben. Das Verfahren umfasst folgende Verfahrensschritte A) Bereitstellen eines Substrats, B) Aufbringen einer ersten Elektrode auf das Substrat, C) Aufbringen eines ersten organischen Schichtstapels auf die erste Elektrode, D) Herstellen eines ladungserzeugenden Schichtstapels auf dem ersten organischen Schichtstapel, E) Aufbringen eines zweiten organischen Schichtstapels auf den ladungserzeugenden Schichtstapel, F) Aufbringen einer zweiten Elektrode auf den zweiten organischen Schichtstapel, wobei Verfahrensschritt D) die folgenden Verfahrensschritte umfasst: D1) Aufbringen einer Lösung eines ersten Metalloxid-Präkursors auf den ersten organischen Schichtstapel, D2) Erzeugen einer ersten ladungserzeugenden Schicht umfassend ein erstes Metalloxid, D3) Aufbringen einer Lösung eines zweiten Metalloxid-Präkursors auf die erste ladungserzeugende Schicht, D4) Erzeugen einer zweiten ladungserzeugenden Schicht umfassend ein zweites Metalloxid.
申请公布号 DE102013109451(A1) 申请公布日期 2015.01.29
申请号 DE201310109451 申请日期 2013.08.30
申请人 OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH 发明人 HÖFLE, STEFAN;COLSMANN, ALEXANDER;REINHARD, MANUEL;LEMMER, ULI, PROF. DR.
分类号 H01L51/50;H01L51/54;H01L51/56 主分类号 H01L51/50
代理机构 代理人
主权项
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