一种磁流变抛光装置与方法

摘要

一种磁流变抛光装置，抛光头由工件轴、固定在工件轴下端的非导磁夹具和置于非导磁夹具与工件轴之间的软磁板构成；装有磁流变液的载液槽位于抛光头下部，载液槽底部有抛光垫；电磁铁位于载液槽下部，与工件保持12—18mm间距；电磁铁和载液槽由往复传动机机构驱动、与工件抛光表面平行作直线往复运动。利用该装置进行磁流变抛光，电磁铁磁通密度为0.1—0.4T，往复移动的行程略大于或等于工件抛光长度，往复移动速度为0.5—5mm/s。工件在磁场平动与工件转动的复合运动下完成表面材料的去除。该装置具有磁场均化性好、磁流变液在抛光加工区内交换顺畅、加工碎屑易排出、工件抛光表面微观纹理均化性好等优点，尤其适用于狭长工件大平面表面研抛加工。

主权项

一种磁流变抛光装置，包括机架(18)，抛光头，载液槽(7)和电磁铁(9)；抛光头由电机驱动的工件轴(1)、固定在工件轴(1)下端的非导磁夹具(3)和置于非导磁夹具(3)与工件轴(1)之间的软磁板(2)构成；载液槽(7)位于抛光头的下部，其中装有磁流变液(5)，载液槽底部有抛光垫(6)；电磁铁(9)位于载液槽(7)的下部，电磁铁与工件(4)的间隙为12‑18mm；其特征在于，所述电磁铁(9)和载液槽(7)由往复传动机构驱动、与工件抛光表面平行作直线往复运动。