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Die Erfindung betrifft ein optisches System für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage. Ein optisches System für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage weist eine optische Achse (OA), wenigstens eine Spiegelanordnung (200, 300), welche eine Mehrzahl von Spiegelelementen (200a, 200b, 200c,..., 300a, 300b, 300c,...) aufweist, wobei diese Spiegelelemente zur Veränderung einer Winkelverteilung des von der Spiegelanordnung reflektierten Lichtes unabhängig voneinander verstellbar sind, und eine Umlenkeinrichtung (210, 310) auf, wobei diese Umlenkeinrichtung (210, 310) bezogen auf den optischen Strahlengang nach der Spiegelanordnung (200, 300) wenigstens eine Umlenkfläche (212), an welcher eine Umlenkung der optischen Achse (OA) auftritt, aufweist, und wobei diese wenigstens eine Umlenkfläche (212) Brechkraft aufweist. |
