利用流量梯度设计以沉积均匀矽膜之方法与设备

主权项

一种用于沉积膜的装置，包括：一处理室；以及一四边形配气板，其设置在该处理室中，该配气板具有：一第一复数扼流器，其穿过该配气板形成，该第一复数扼流器设置于该配气板的一角部分中；以及一第二复数扼流器，其穿过该配气板形成，该第二复数扼流器沿该配气板的一边缘部分设置，其中该第一复数扼流器具有比该第二复数扼流器更大的流动阻力，其中穿过该配气板形成之该等扼流器之每个扼流器具有与一孔耦合的一通道，其中该通道具有比该孔更小的直径，及其中该第二复数扼流器之该等通道具有比该第一复数扼流器之该等通道更短的深度。