測定装置、測定方法および半導体デバイス製造方法

摘要

ウェハ上に形成されるデバイスのパターンから、パターンが露光された時のフォーカス状態を計測することができる装置を提供する。露光により形成されたパターンを表面に有するウェハ１０を照明光で照明する照明系２０と、ウエハ１０の表面に形成されたパターンによって変調された照明光を検出して検出信号を出力する受光系３０および撮像装置３５と、ウェハ１０の表面上の所望の部分のパターンの露光条件を、該パターンの複数の部分で検出された検出信号を用いて測定する検査部４２とを備える。