| 摘要 |
<p>본 발명은 플라즈마 반응에 의해 생성되는 오존, 활성라디칼, 자외선 등을 이용하여 오염수를 정화하는 플라즈마 반응을 이용한 정수장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 석영관과 방전전극 내부에서 발생하는 플라즈마 반응에 의해 정화된 처리수의 오존 함량을 최소화하여 오존을 제거하는 처리수의 후처리를 보다 용이하게 하고, 오염수의 역류를 방지하여 플라즈마 반응을 위한 석영관과 방전전극을 보호하도록 한 플라즈마 반응을 이용한 정수장치에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 오염수유입관과 처리수배출관이 각각 구비된 원통형의 반응조, 상기 반응조의 상부에 설치되고 상단이 공기주입구와 연통된 석영관, 상기 석영관의 내부 중앙에 설치된 방전전극, 상기 반응조의 상부에 관통 설치되어 석영관과 평행하게 일정간격으로 이격된 접지전극, 상기 반응조의 하부에 설치되되 석영관의 하단과 연결된 기포발생부재로 구성된 플라즈마 반응을 이용한 정수장치에 있어서, 상기 반응조는 석영관과 접지전극을 내부로 수용하는 내관과, 내관의 외부에 설치되되 내관을 상부를 통해 연통되는 외관으로 구성되어, 내관의 상부를 통해 연통되는 반응실과 배출실로 구획되고; 상기 오염수유입관은 내관의 하부에 반응실과 연통되게 설치되며; 상기 처리수배출관은 외관의 하부에 배출실과 연통되게 설치되고; 상기 외관의 상부 양측에 각각 외기유입관과 외기배출관이 배출실과 연통되게 설치됨을; 특징으로 한 플라즈마 반응을 이용한 정수장치가 제공된다.</p> |
