发明名称 リソグラフィ装置および方法
摘要 投影システム(PSW)内、および基板テーブル(WT)に隣接して設けられるスペクトル純度フィルタを備えたリソグラフィ装置が開示される。スペクトル純度フィルタは、ポリシリコン、多層膜材料、カーボンナノチューブ材料、またはグラフェンから形成された膜(14)であることが好ましい。膜には、保護キャッピング層および/または薄い金属の透明な層が設けられてもよい。【選択図】 図6
申请公布号 JP2015523611(A) 申请公布日期 2015.08.13
申请号 JP20150524757 申请日期 2013.07.30
申请人 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. 发明人 バニエ,バディム,エヴィジェンエビッチ;ミンナールト,アーサー,ウィンフライト,エドゥアルドゥス;ムイジェンス,マルセル,ヨハヌス,エリザベス,ヒューベルタス;ヤクニン,アンドレイ,ミクハイロヴィッチ;スキャカバラロッツィ,ルイージ;モールマン,ハンス イェルク;バル,クルサット;ライテン,カルロ,コルネリス,マリア;ニーンフイス,ハン−クワン;フイベルツ,アレキサンダー マリヌス アーノルドス;ギャセリン,パウルス,アルベルタス,マリア;リゾ ディアゴ,ペドロ,ジュリアン;ヴァン カンペン,マールテン;ヴァン アールレ,ニコラース,アルデゴンダ,ヤン,マリア
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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