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<p>노광 장치에 의해 노광되고 현상된 기판 상의 패턴의 선폭은, 측정기에 의해 측정된다. 해석 장치는, 그 선폭이 이상하다고 판정한 경우 (단계 303) 에는, 그 선폭의 실측값과 시뮬레이션값의 일치도에 근거하는 선폭 변동 요인의 장치의 특정 (단계 307), 통계값에 근거하는 선폭 변동 요인의 특정 (단계 311), 파라미터의 최적화 (단계 315, 317) 등을 실시한다. 이로써, 디바이스 제조 공정에 있어서, 그 수율이 향상된다.</p> |
