发明名称 |
气体阻隔性膜 |
摘要 |
本发明的目的是提供一种高气体阻隔性、并且气体阻隔性的反复再现性优异的气体阻隔性膜。本发明的气体阻隔性膜,其特征在于,是在高分子膜基材的至少一面依次配置有3个无机化合物层即[A]层、[B]层、[C]层的气体阻隔性膜,所述[B]层的厚度为0.2~20nm,且密度比[A]层和[C]层的任何一个的密度都高。 |
申请公布号 |
CN103764387B |
申请公布日期 |
2015.09.30 |
申请号 |
CN201280042577.8 |
申请日期 |
2012.09.04 |
申请人 |
东丽株式会社 |
发明人 |
上林浩行;吉田实 |
分类号 |
B32B9/00(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/20(2006.01)I |
主分类号 |
B32B9/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 11247 |
代理人 |
段承恩;杨光军 |
主权项 |
一种气体阻隔性膜,是在高分子膜基材的至少一面具有气体阻隔层的气体阻隔性膜,所述气体阻隔层具有层结构,所述层结构是从高分子膜基材侧起[A]层、[B]层、[C]层接触地配置而成的,所述[A]层以及所述[C]层的层密度在2.0~9.0g/cm<sup>3</sup>的范围,所述[B]层是密度为2.3~10.5g/cm<sup>3</sup>、且比所述[A]层和所述[C]层的任何一个的密度都高,并且厚度为0.2~20nm的层,所述[A]层为以锌(Zn)化合物为主成分的、以下的[A1]层或者[A2]层,[A1]层:包含氧化锌‑二氧化硅‑氧化铝共存相的层;[A2]层:包含硫化锌与二氧化硅的共存相的层。 |
地址 |
日本东京都 |