RESIST UNDERLAYERCOMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERNS USING THE RESIST UNDERLAYERCOMPOSITION
摘要
<p>하기 화학식 1로 표현되는 중합체 및 용매를 포함하는 레지스트 하층막용 조성물 및 상기 레지스트 하층막용 조성물을 사용한 패턴 형성 방법에 관한 것이다. [화학식 1]상기 화학식 1에서, R내지 R는, R내지 R, a 내지 d는 각각 명세서에서 정의한 바와 같다.</p>
