发明名称 半导体组件及其制法
摘要 一种半导体组件及其制法,该半导体组件包括:透明基板;形成于该透明基板上且具有金属氧化物层的叠层结构,其中,该叠层结构的侧壁外露出部分金属氧化物层;多个导脚,其中各该导脚间隔形成于该叠层结构上并延伸至其侧壁上;形成于该外露的金属氧化物层上的绝缘膜;形成于该导脚上的金属膜;以及覆盖于该金属膜、叠层结构表面及绝缘膜上的拒焊层,通过绝缘膜避免相邻导脚产生短路现象。
申请公布号 CN103094233B 申请公布日期 2015.09.30
申请号 CN201210433996.6 申请日期 2012.11.02
申请人 精材科技股份有限公司 发明人 陈鋐菖
分类号 H01L23/488(2006.01)I;H01L23/31(2006.01)I;H01L21/60(2006.01)I 主分类号 H01L23/488(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇
主权项 一种半导体组件,其特征在于,其包括:透明基板;叠层结构,其形成于该透明基板上,该叠层结构包括依序形成于该透明基板上的金属氧化物层、胶层及半导体层,且该叠层结构具有多个沟槽,以令该金属氧化物层外露于该沟槽的槽壁;多个导脚,其间隔形成于该叠层结构的顶面上并延伸至该沟槽的槽壁上;绝缘膜,其覆盖于外露的该金属氧化物层上;金属膜,其形成于各该导脚上;以及拒焊层,其形成于该金属膜、该叠层结构的顶面与该绝缘膜上及该沟槽中,且该叠层结构的顶面的金属膜上的拒焊层形成有多个开孔,以外露各该导脚上的金属膜的部分。
地址 中国台湾桃园县中坜市中坜工业区吉林路23号9F