一种杂散光测量装置

摘要

本专利公开了一种杂散光测量装置，测量装置包括激光器、探测器，激光器有测试波段和定位波段两个波段光，两波段光共口径同方向出射，激光器测量波段和探测器响应波段位于待测光学系统的关注波段范围内，探测器覆盖激光器的测量波段。测量时，首先对光学系统入口进行分区，调整激光器出射光束相对光学系统光轴方向的夹角，并利用置于光学系统像平面的探测器，探测开启状态下的激光器出射光束到达像平面的光能量，完成该孔径位置、该离轴角条件下，杂散光的影响程度的测量，通过孔径积分获得该离轴角条件下杂散光影响程度。本专利的优点在于原理简单，通用各种尺寸口径的光学系统，且可以直观定位杂散光一次散射位置路径。

主权项

一种杂散光测量装置，包括激光器和探测器，其特征在于：所述的激光器包括激光器头部、调整架两大部分，激光器头部有测试波段和定位波段两个波段激光，两波段的激光共口径同方向出射，当测试波段为可见波段时，激光器的测试波段和定位波段为同一波段，所述的调整架具有两维平动和两维俯仰，共四维调节和锁定功能。