气压平衡装置、反应室抽气系统以及半导体机台

摘要

本实用新型提供了一种气压平衡装置、反应室抽气系统以及半导体机台，其中，所述气压平衡装置用于反应室的气压控制，所述反应室和一第一泵通过第一泵送管连接，包括：气压测量装置，所述气压测量装置位于所述反应室内；与所述气压测量装置连接的控制器；与所述控制器连接的隔离阀；第二泵以及第二泵送管。当所述第一泵卡死逐渐停止工作时，所述气压测量装置就向所述控制器发出一触发信号，所述控制器触发与所述隔离阀，并使所述隔离阀打开，通过与所述隔离阀连接的所述第二泵为所述反应室提供动力，抽取所述反应室内的气体，避免所述泵送管与所述第一泵中的气体倒灌入所述反应室内，避免了所述反应室内的产品报废，从而节省了成本。

主权项

一种气压平衡装置，用于反应室的气压控制，所述反应室和一第一泵通过第一泵送管连接，其特征在于，所述气压平衡装置包括：气压测量装置，所述气压测量装置位于所述反应室内；控制器，所述控制器与所述气压测量装置连接；第二泵；第二泵送管，所述第二泵送管的一端与第一泵送管连接，所述第二泵送管的另一端与所述第二泵连接；隔离阀，所述隔离阀与所述控制器连接，所述隔离阀位于所述第二泵送管上。