一种Cr（VI）阴离子印迹材料的制备方法及其用途

摘要

本发明提供了一种Cr(VI)阴离子印迹材料的制备方法及其用途，该材料可用于选择性吸附Cr(VI)阴离子。该材料以甲基丙稀酰氧丙基三甲氧基硅烷修饰的SBA-15为基底，以重铬酸钾为模板分子，以甲基丙烯酸和4-乙烯基吡啶为双功能单体，乙二醇二甲基丙烯酸酯为交联剂，偶氮二异丁腈为引发剂制备而成。将该材料用于选择性吸附Cr(VI)阴离子具有很好的吸附效果；印迹聚合物接枝于介孔二氧化硅(SBA-15)表面，避免了因模板离子包埋过深而洗脱困难的问题；制备的Cr(VI)阴离子印迹聚合物应用于动态吸附实验，还表现出优异的再生性能。

主权项

一种Cr(VI)阴离子印迹材料的制备法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1、取甲基丙稀酰氧丙基三甲氧基硅烷修饰的SBA‑15加入到体积比为3:1的甲醇与水的混合溶液中超声分散，向其中加入重铬酸盐、功能单体1和功能单体2，形成混合液A，将混合液A在油浴中磁力搅拌形成预组装体系；将所述预组装体系通惰性气体排氧后，在磁力搅拌作用下，向所述预组装体系中加入交联剂和引发剂，得到混合液B；将混合液B的油浴升温，并在惰性气体下回流反应；反应结束后，停止通惰性气体并冷却；收集产物，清洗，干燥；步骤2、将步骤1中的产物用盐酸洗脱聚合物中缔合的Cr(VI)阴离子，最后用二次蒸馏水洗至呈中性；干燥，研磨，过筛，制得双功能单体SBA‑15表面Cr(VI)阴离子印迹材料。