真空成膜装置

摘要

本发明提供一种能够以高生产率均匀地对基板进行成膜处理的真空成膜装置。通过使被料盘(T)支撑的基板通过与成膜部(P1、P2)相向的成膜区域时的料盘(T)的搬运速度低于通常的料盘(T)的搬运速度，能够在料盘(T)通过成膜室(CB3)的成膜区域时，使多个料盘(T)以相互接触的状态通过成膜区域。

主权项

一种真空成膜装置，具有：料盘，支撑多个基板，成膜室，在减压状态下对基板进行成膜处理，上游侧压力调整部，配设于所述成膜室的在所述料盘的搬运方向上的上游侧，游侧压力调整部，配设于所述成膜室的在所述料盘的搬运方向上的下游侧，第一闸阀，配设在所述上游侧压力调整部和所述成膜室之间，第二闸阀，配设在所述成膜室和所述下游侧压力调整部之间，压力调整机构，对所述成膜室、所述上游侧压力调整部以及所述下游侧压力调整部的压力单独地进行调整，搬运机构，将所述料盘依次搬运至所述上游侧压力调整部、所述成膜室、所述下游侧压力调整部；该真空成膜装置的特征在于，所述成膜室包括对被所述料盘支撑的基板进行成膜处理的成膜区域和形成在该成膜区域的两侧的上游侧非成膜区域和下游侧非成膜区域，所述搬运机构能够单独控制所述料盘在所述上游侧压力调整部、所述成膜室的上游侧非成膜区域、所述成膜室的成膜区域、所述成膜室的下游侧非成膜区域以及所述下游侧压力调整部中的搬运速度，通过使被所述料盘支撑的基板通过所述成膜区域时的所述料盘的搬运速度低于被所述料盘支撑的基板通过所述上游侧压力调整部、所述成膜室的上游侧非成膜区域、所述成膜室的下游侧非成膜区域以及所述下游侧压力调整部时的所述料盘的搬运速度，在所述料盘通过所述成膜室的成膜区域时，使所述料盘以相互接触的状态通过所述成膜区域。