光掩模坯料及光掩模的制造方法

摘要

在含有铬、在氟类干式蚀刻中不受到实质性的蚀刻并且在含氧氯类干式蚀刻中能够蚀刻的遮光膜（13）之上，层叠不含有铬、在氟类干式蚀刻且含氧氯类干式蚀刻中能够蚀刻的膜（14）。

主权项

一种光掩模坯料，其特征在于，具备：透明性基板；移相膜，在上述透明性基板上设置，在含氧氯类干式蚀刻中不受到实质性的蚀刻并且在氟类干式蚀刻中能够蚀刻，上述移相膜是使以硅氧化物、硅氮化物或硅氮氧化物为主成分的硅类化合物含有金属而得到的膜；遮光膜，设置在上述移相膜上，上述遮光膜在氟类干式蚀刻中不受到实质性的蚀刻并且在含氧氯类干式蚀刻中能够蚀刻，上述遮光膜是以铬氧化物、铬氮化物或铬氮氧化物为主成分的金属化合物膜、或以铬为主成分的金属膜或合金膜；以及第1膜，设置在上述遮光膜上，上述第1膜在氟类干式蚀刻及含氧氯类干式蚀刻中能够蚀刻，上述第1膜不含有铬而含有从钼、钽、钨、锆、铪、钒及铌中选择的过渡金属，上述过渡金属的含有量为，相对于过渡金属与硅的合计占10原子％以上。