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发明名称 MONOMER FOR HARDMASK COMPOSITION AND HARDMASK COMPOSITION INCLUDING THE MONOMER AND METHOD OF FORMING PATTERNS USING THE HARDMASK COMPOSITION
摘要 하기 화학식 1로 표현되는 하드마스크 조성물용 모노머, 상기 모노머를 포함하는 하드마스크 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법에 관한 것이다. [화학식 1]상기 화학식 1에서, A, A′, L, L′, X 및 n의 정의는 명세서에서 정의한 바와 같다.
申请公布号 KR101556276(B1) 申请公布日期 2015.09.30
申请号 KR20120157570 申请日期 2012.12.28
申请人 제일모직 주식회사 发明人 신승욱;김윤준;김혜정;조연진;최유정
分类号 C07C15/40;C07C63/15;G03F1/00;G03F7/26 主分类号 C07C15/40
代理机构 代理人
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