| 发明名称 | 成膜装置及其运用方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种成膜装置及其运用方法。在该成膜装置的运用方法中，在石英制的处理容器内进行在保持于保持部件上的多个被处理体的表面上形成碳膜的成膜工序，其中，进行在与处理容器内的处理空间相接触的石英制的构件的表面上形成使碳膜的密合性提高的密合膜形成工序。由此，使碳膜相对于与处理容器内的处理空间相接触的石英制的构件的表面的密合性提高并抑制产生微粒。 | ||
| 申请公布号 | CN103088314B | 申请公布日期 | 2015.09.30 |
| 申请号 | CN201210419452.4 | 申请日期 | 2012.10.26 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 远藤笃史;水永觉;大塚武裕 |
| 分类号 | C23C16/26(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/26(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;张会华 |
| 主权项 | 一种成膜装置的运用方法，其中，在石英制的处理容器内进行在保持于保持部件上的多个被处理体的表面上形成碳膜的成膜工序，其特征在于，进行在与上述处理容器内的处理空间相接触的石英制的构件的表面上形成使碳膜的密合性提高的密合膜的密合膜形成工序。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||