发明名称 光源装置和投影仪
摘要 激励光照射装置,具备:配置为平面状的多个激励光源;与各个激励光源对应的多个准直透镜;作为保持体的透镜保持体,保持多个激励光源和多个准直透镜;以及光源保持体。将从多个激励光源经由多个准直透镜而射出的光聚光到荧光体层上,保持体以使准直透镜的光轴和激励光源的光轴平行地偏移的方式保持准直透镜和激励光源,并且规定准直透镜的光轴和激励光源的光轴之间的移动量,以使得激励光聚光到荧光体层上的规定区域,来自激励光源的光利用准直透镜进行折射。
申请公布号 CN102736384B 申请公布日期 2015.09.30
申请号 CN201210146862.6 申请日期 2012.03.30
申请人 卡西欧计算机株式会社 发明人 黑崎秀将
分类号 G03B21/20(2006.01)I;G03B21/14(2006.01)I;F21V14/06(2006.01)I;F21V13/00(2006.01)I 主分类号 G03B21/20(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 徐殿军
主权项 一种光源装置,具备:配置为平面状的多个光源;多个准直透镜,配置在上述多个光源的各个光源的附近,将从各上述光源射出的光聚光;保持体,保持上述多个光源和上述多个准直透镜;荧光板,从上述光源射出的激励光经由上述准直透镜照射到该荧光板;以及光通道,剖面形状为大致矩形;上述保持体,以使上述准直透镜的光轴和上述光源的光轴平行地偏移的方式保持上述准直透镜和上述光源,并且,规定作为上述准直透镜的光轴和上述光源的光轴之间的偏移量的移动量,以使得从上述光源经由上述准直透镜而射出的光聚光到被照射体上的形状与上述光通道的形状相同而形成为矩形的规定区域且激励光的照射强度大致均匀;从上述光源射出的光利用上述准直透镜进行折射,并聚光到上述规定区域;在上述准直透镜和上述荧光板之间,依次配置凹透镜、二向色镜与聚光透镜组;上述聚光透镜组将从上述凹透镜经由上述二向色镜的激励光聚光到上述荧光板的荧光体层上,并将来自上述荧光体层的荧光聚光;上述二向色镜相对于上述凹透镜和上述聚光透镜组的光轴倾斜地配置,使从上述凹透镜射出的激励光透射,将被上述聚光透镜组聚光后的上述荧光反射。
地址 日本东京都
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