发明名称 在像场中成像物场的成像光学系统和照明物场的照明光学系统
摘要 一种具有多个反射镜的成像光学系统,该多个反射镜将物平面(11)中的物场(9)成像到像平面(14)中的像场(13)中。至少一个所述反射镜的反射面被构造为不能通过旋转对称函数描述的自由形状面。所述物场的纵横比大于(x/y)1,物场的最小和最大横向尺寸的比小于0.9。在另一方面中,物场(9)和/或像场(13)偏离镜面对称场形状。用于照明物场(9)的照明光学系统(10)具有引导照明光(3)的组件,所述组件被设计为照明相应形成的物场(9)。结果,在配备了上述反射镜的成像光学系统、照明光学系统和透射曝光系统中,考虑对由成像光学系统成像的场上的成像误差的校正的更高的要求。
申请公布号 CN102483516B 申请公布日期 2015.09.30
申请号 CN201080037247.0 申请日期 2010.06.08
申请人 卡尔蔡司SMT有限责任公司 发明人 汉斯-于尔根.曼;约翰尼斯.泽尔纳;奥雷利安.多多克;马科.普雷托里厄斯;克里斯托夫.门克;威廉.乌尔里克;马丁.恩德雷斯
分类号 G02B17/06(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G02B27/09(2006.01)I 主分类号 G02B17/06(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 邱军
主权项 一种具有多个反射镜的成像光学系统,所述多个反射镜将物平面中的物场成像到像平面中的像场中,‑其中至少一个所述反射镜的反射面被构造为不能通过旋转对称函数描述的自由形状面,‑其中所述物场的纵横比大于1,并且纵向维度沿着长边延伸,横向维度沿着窄边延伸,其特征在于:所述物场的最小横向尺寸YS<sub>min</sub>与最大横向尺寸YS<sub>max</sub>的比小于0.9。
地址 德国上科亨