| 发明名称 | 气化气生成系统 | ||
| 摘要 | 气化气生成系统(100)具备：燃烧炉(110)，其加热流动介质；气化炉(140)，通过燃烧炉(110)加热的流动介质被导入其中，用流动介质具有的热使气化原料气化而生成气化气；以及冷却机构(160)，其冷却在气化炉(140)和燃烧炉(110)之间流通的流动介质。另外，流动介质在燃烧炉(110)和气化炉(140)之间循环，流动介质和气化原料的残渣从气化炉(140)被导入燃烧炉中，燃烧炉(110)使残渣燃烧而加热流动介质。 | ||
| 申请公布号 | CN104955923A | 申请公布日期 | 2015.09.30 |
| 申请号 | CN201480007222.4 | 申请日期 | 2014.03.19 |
| 申请人 | 株式会社IHI | 发明人 | 毛利慎也;渡边修三 |
| 分类号 | C10J3/54(2006.01)I | 主分类号 | C10J3/54(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 刘林华;李婷 |
| 主权项 | 一种气化气生成系统，具备：燃烧炉，其加热流动介质；气化炉，通过所述燃烧炉加热的流动介质被导入其中，用该流动介质具有的热使气化原料气化而生成气化气；以及冷却机构，其冷却在所述气化炉和所述燃烧炉之间流通的流动介质，所述流动介质在所述燃烧炉和所述气化炉之间循环，并且所述流动介质和所述气化原料的残渣从所述气化炉被导入所述燃烧炉中，所述燃烧炉使所述残渣燃烧而加热所述流动介质。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||