发明名称 一种氧化反应炉及利用该反应炉进行氧化反应的方法
摘要 本发明涉及一种立式反应炉,尤其涉及一种氧化反应炉及利用该反应炉进行氧化反应的方法,在现有技术的反应炉增设了一根N<sub>2</sub>O管,该N<sub>2</sub>O管位于反应炉内的高度高于其余特气管的高度,且该N<sub>2</sub>O管的顶部开口端位于反应炉内晶舟高度的1/3到2/3处。在实际生产过程中,通过特气管道往反应炉内通入相应的反应气体,并将增设的N<sub>2</sub>O管的气体流量控制在一定范围内,可减小由于反应炉上下不同位置处反应气体浓度的差异性,进而保证了各个位置处的硅片生成氧化膜厚度均匀度,提高了生产工艺和硅片的良品率。
申请公布号 CN103165497B 申请公布日期 2015.09.30
申请号 CN201310055077.4 申请日期 2013.02.20
申请人 上海华力微电子有限公司 发明人 江润峰
分类号 H01L21/67(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I 主分类号 H01L21/67(2006.01)I
代理机构 上海申新律师事务所 31272 代理人 竺路玲
主权项 一种氧化反应炉,所述反应炉内设置有内石英管壁、外石英管壁、晶舟和排气管路,其特征在于,所述反应炉内还设置有多根特气管路,所述特气管路包括至少一根DCS管路和至少两根N<sub>2</sub>O管路;所述至少两根N<sub>2</sub>O管路包括至少一根低N<sub>2</sub>O管路和至少一根高N<sub>2</sub>O管路;所述DCS管路和所述低N<sub>2</sub>O管路高度均低于所述晶舟的底部表面高度,所述高N<sub>2</sub>O管路的顶部开口端位于所述晶舟高度的1/3至2/3位置处;所述多根特气管路将反应气体通入由所述内石英管壁和外石英管壁构成的腔室内,所述排气管将所述腔室内的气体排出所述反应炉。
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