| 发明名称 | 调节温度场和/或等离子场的阻抗可控模块 | ||
| 摘要 | 一种调节温度场和/或等离子场的阻抗可控模块，所述阻抗可控模块被设置于化学气相沉积设备基台与衬底之间，所述阻抗可控模块平面区域内不同位置处具有不同的导热特性以改变化学气相沉积设备工艺腔室内的温度场分布，和/或所述阻抗可控模块平面区域内不同位置处具有不同的介电常数，以改变化学气相沉积设备工艺腔室内的等离子场分布。利用本发明的调节温度场和/或等离子场的阻抗可控模块，能够实现温度场和/或等离子场空间分布的灵活、精细化调控，低成本而高效，为实现大面积精细调控温度场和/或等离子场的空间分布技术提供了一种有效的解决方案。 | ||
| 申请公布号 | CN104947088A | 申请公布日期 | 2015.09.30 |
| 申请号 | CN201510334029.8 | 申请日期 | 2015.06.16 |
| 申请人 | 清华大学 | 发明人 | 向东;杨旺;夏焕雄;张瀚;牟鹏;刘学平 |
| 分类号 | C23C16/52(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/52(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人 | 张文宝 |
| 主权项 | 一种调整温度场和/或等离子场的阻抗可控模块，所述阻抗可控模块被设置于化学气相沉积设备基台与衬底之间，所述阻抗可控模块平面区域内不同位置处具有不同的导热特性以改变化学气相沉积设备工艺腔室内的温度场分布，和/或所述阻抗可控模块平面区域内不同位置处具有不同的介电常数，以改变化学气相沉积设备工艺腔室内的等离子场分布。 | ||
| 地址 | 100084 北京市海淀区北京市100084-82信箱 | ||