| 发明名称 | 磁记录膜用溅射靶及用于制造该溅射靶的碳原料 | ||
| 摘要 | 一种溅射靶，其为包含合金和分散在该合金中的非磁性材料的烧结体溅射靶，所述合金的组成包含5～60摩尔％的Pt、余量为Fe，其特征在于，至少含有5～60摩尔％的C作为非磁性材料，与靶的溅射面垂直的截面中的C粒子的平均粒子面积为50μm<sup>2</sup>以上。本发明的课题在于提供能够在不使用高价的共溅射装置的情况下制作热辅助磁记录介质的磁性薄膜且减少了溅射时产生的粉粒量的溅射靶。 | ||
| 申请公布号 | CN104955981A | 申请公布日期 | 2015.09.30 |
| 申请号 | CN201480006305.1 | 申请日期 | 2014.04.24 |
| 申请人 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 发明人 | 荻野真一 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I;G11B5/851(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 王海川;穆德骏 |
| 主权项 | 一种所述溅射靶，其为包含合金和分散在该合金中的非磁性材料的烧结体溅射靶，所述合金的组成包含5～60摩尔％的Pt、余量为Fe，其特征在于，至少含有5～60摩尔％的C作为非磁性材料，与靶的溅射面垂直的截面中的C粒子的平均粒子面积为50μm<sup>2</sup>以上。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||