发明名称 电荷粒子束照射系统
摘要 本发明提供一种能够缩短电荷粒子束向照射对象的照射时间的电荷粒子束照射系统。具备:电荷粒子束产生装置,其加速地射出电荷粒子束;照射装置,其具有扫描电荷粒子束的扫描电磁铁,向照射对象的多个照射点射出加速后的电荷粒子束;射束射线量测量器,其求出通过照射装置内的电荷粒子束的射线量;射束位置测量器,其求出通过扫描电磁铁扫描的电荷粒子束的位置和宽度的任意一方或双方。
申请公布号 CN104941076A 申请公布日期 2015.09.30
申请号 CN201510085293.2 申请日期 2015.02.16
申请人 株式会社日立制作所 发明人 伊藤友纪;松田浩二;品川亮介;田所昌宏;西村荒雄
分类号 A61N5/10(2006.01)I 主分类号 A61N5/10(2006.01)I
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人 曾贤伟;郝庆芬
主权项 一种电荷粒子束照射系统,其特征在于,具备:电荷粒子束产生装置,其加速地射出电荷粒子束;照射装置,其具有扫描加速后的电荷粒子束的扫描电磁铁,向多个照射点射出加速后的上述电荷粒子束,该多个照射点是针对在上述电荷粒子束的前进方向上将照射对象分割为多个而成的每个层进行设定的;射束射线量测量器,其求出通过上述照射装置内的电荷粒子束的射线量;射束位置测量器,其求出通过上述扫描电磁铁扫描的电荷粒子束的位置和宽度的任意一方或其双方,其中上述射束位置测量器,针对每个上述照射点求出上述电荷粒子束的位置和宽度的任意一方或其双方,并判定是否处于允许范围内,针对多个上述照射点中的一部分或全部的照射点,对于分割为多个照射分区而管理射线量的分段,在向该照射点照射电荷粒子束的过程中,对每个该分段求出上述电荷粒子束的位置和宽度的任意一方或其双方,判定是否处于允许范围内。
地址 日本东京都