发明名称 |
一种降低成膜腔室中微粒杂质的方法及装置 |
摘要 |
本发明公开了一种降低成膜腔室中微粒杂质的方法及装置,其中方法包括:对玻璃进行表面活化,将玻璃置于成膜腔室中,通过玻璃吸附成膜腔室中的微粒杂质,将吸附有微粒杂质的玻璃从成膜腔室中取出。通过上述方式,本发明可降低液晶工艺中的PVD或CVD制程中成膜腔室中的微粒杂质,避免由于微粒杂质导致的成膜后膜层损伤、膜脱、器件失效等缺陷,降低因为微粒杂质造成的产品良率损失。 |
申请公布号 |
CN104947036A |
申请公布日期 |
2015.09.30 |
申请号 |
CN201510405071.4 |
申请日期 |
2015.07.10 |
申请人 |
武汉华星光电技术有限公司 |
发明人 |
张文波 |
分类号 |
C23C14/00(2006.01)I;C23C16/00(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/00(2006.01)I |
代理机构 |
深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 |
代理人 |
何青瓦 |
主权项 |
一种降低成膜腔室中微粒杂质的方法,其特征在于,所述方法包括:对玻璃进行表面活化;将所述玻璃置于所述成膜腔室中;通过所述玻璃吸附所述成膜腔室中的所述微粒杂质;将吸附有所述微粒杂质的所述玻璃从所述成膜腔室中取出。 |
地址 |
430070 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋 |