Substrate Processing Apparatus

摘要

본 발명은, 상면에 복수의 엠보싱이 설치되고 상면 둘레에 댐부가 형성된 하부전극을 포함하되, 댐부에서 리프트 핀 관통홀의 형성 부위에 안쪽으로 연장된 연장보강부가 형성되고, 연장보강부에 헬륨가스 유로(통과홀)이 측방향으로 형성됨으로써, 연장보강부에 밀착되는 기판 가장자리 부위까지 균일하게 냉각하여 포토레지스터 버닝의 발생을 방지할 수 있는 기판 처리장치를 제공한다.