发明名称 |
METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM AND NON-TRANSITORY COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM |
摘要 |
본 발명은 뛰어난 에칭 내성을 가지는 저유전율의 박막을 형성한다. 기판 상에 소정 원소, 수분 및 염소를 포함하는 제1 불순물 및 탄화수소 화합물을 포함하는 제2 불순물을 포함하는 박막을 형성할 때의 상기 기판의 온도보다도 높은 제1 온도로 상기 박막을 열처리하는 것에 의해 상기 박막 중으로부터 상기 제1 불순물을 제거하는 공정; 및 상기 제1 온도 이상의 제2 온도로 상기 박막을 열처리하는 것에 의해 상기 제1 온도로 열처리한 후의 상기 박막 중으로부터 상기 제2 불순물을 제거하는 공정;을 포함한다. |
申请公布号 |
KR101555604(B1) |
申请公布日期 |
2015.09.24 |
申请号 |
KR20150021336 |
申请日期 |
2015.02.12 |
申请人 |
가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키 |
发明人 |
시마모토 사토시;노다 타카아키;하나시마 타케오;히로세 요시로;아시하라 히로시;카마쿠라 츠카사;노하라 싱고 |
分类号 |
H01L21/02;H01L21/20;H01L21/324 |
主分类号 |
H01L21/02 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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