| 摘要 |
<p>本発明にかかるミラー機構は、マイクロリソグラフィー用ＥＵＶ投影露光装置のためのミラー機構であって、それぞれがＥＵＶスペクトル域で反射性であるとともにＥＵＶ放射を当てることができる層（３２）を有する複数のミラーを備え、かかる複数のミラーのうちの少なくとも一つのミラー（３２）は、熱膨張係数が負である材料を含む少なくとも一つの層（３６）を有することを特徴とする。さらに、本発明は、ミラー機構及び投影露光装置の操作方法にも関するものである。上述した少なくとも一つのミラーの熱膨張係数が負である少なくとも一つの層を狙った態様で局所的に加熱するために、少なくとも一つの熱源が配置されている。【選択図】図２</p> |
