| 摘要 |
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Abscheiden von kohlenstoffhaltigen Strukturen beispielsweise Schichten in Form von Nanoröhrchen oder Graphene auf einem Substrat (6), welches von einem in einem Prozesskammergehäuse (19) angeordneten Substratträger (1) getragen wird, wobei durch Gasaustrittsöffnungen (39) eines im Prozesskammergehäuse (19) angeordneten Gaseinlassorgans (24, 25) ein Prozessgas in Richtung auf das mindestens eine Substrat (6) einspeisbar ist. Zur gebrauchsvorteilhaften Weiterbildung wird vorgeschlagen, dass das Prozesskammergehäuse (19) zwei sich gegenüberliegende Wände (48, 48') aufweist, die Halteaussparungen (34, 35, 36, 37, 38) aufweisen und dass in dem Prozesskammergehäuse (19) mindestens ein plattenförmiges Bauteil (24, 25, 26, 30, 31) angeordnet ist, das mit zwei voneinander wegweisenden Randabschnitten jeweils in einer Halteaussparung (34 bis 38) einer der beiden Wände (48, 48') steckt. |
