发明名称 炭化ケイ素半導体装置
摘要 第一導電型炭化ケイ素層12と、第一導電型炭化ケイ素層12上に、水平方向で複数設けられた第二導電型炭化ケイ素層13と、第二導電型炭化ケイ素層13内に形成された第一導電型のソース領域17と、を備えている。第二導電型炭化ケイ素層13及びソース領域17上には、第一絶縁層21が設けられ、第二導電型炭化ケイ素層13上であってソース領域17上には位置しない箇所には、第二絶縁層22が設けられている。第一絶縁層21内にゲート電極31が設けられ、第二絶縁層22内にはゲート電極31が設けられていない。水平方向において、第一絶縁層21の隣に第二絶縁層22が配置されている。第二絶縁層22の下方に位置する第二導電型炭化ケイ素層の間の第二距離L2は、第一絶縁層21の下方に位置する第二導電型炭化ケイ素層の間の第一距離L1よりも長くなっている。
申请公布号 JP5784860(B1) 申请公布日期 2015.09.24
申请号 JP20150504450 申请日期 2014.09.26
申请人 新電元工業株式会社 发明人 中村 俊一;菅井 昭彦;井上 徹人
分类号 H01L29/12;H01L29/739;H01L29/78 主分类号 H01L29/12
代理机构 代理人
主权项
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