| 摘要 |
<p>향상된 패턴 분산도를 가지는 미세 패턴의 형성 방법에 있어서, 기판 상에 광경화성 코팅막을 형성한다. 패턴 크기에 관하여 제1 분산도를 갖는 복수개의 제1 패턴들을 제1 면에 구비하고 적어도 일부에 광 감쇠 부재를 포함하는 템플레이트의 제1 면을 광경화성 코팅막에 접촉시킨다. 템플레이트를 통해 광경화성 코팅막에 빛을 조사하여 제1 패턴들로부터 전사되고 제1 분산도보다 낮은 제2 분산도를 갖는 제2 패턴들을 구비하는 경화된 코팅막을 형성한 다음, 템플레이트를 경화된 코팅막으로부터 분리한다. 나노임프린트 공정에 사용되는 템플레이트의 패턴 분산도를 광 감쇠 부재를 통해 보정함으로써 패턴 분산도가 개선된 미세 패턴을 제조할 수 있다.</p> |
