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发明名称 Semiconductor Apparatus of Furnace Type
摘要 <p>본 발명은 퍼니스형 반도체 설비를 제공한다. 본 발명의 퍼니스형 반도체 설비는 공정 튜브; 상기 공정 튜브 내에 위치되는 기판 적재 유닛; 상기 기판 적재 유닛에 적재된 기판들로 공정 가스를 분사하는 노즐들을 포함하되; 상기 노즐들은 상기 기판 적재 유닛의 길이방향에 대해 적어도 2개 이상의 구간별로 가스를 분사하는 구간 노즐들을 포함한다.</p>
申请公布号 KR101555238(B1) 申请公布日期 2015.09.24
申请号 KR20130084304 申请日期 2013.07.17
申请人 发明人
分类号 C23C16/455;H01L21/205 主分类号 C23C16/455
代理机构 代理人
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