エキシマレーザアニーリングプロセスのための監視する方法および装置

摘要

エキシマレーザからのパルスを用いた照射によって結晶化されたシリコン層を評価する方法が、開示される。結晶化は、層が暴露されるパルスの数およびその中のエネルギー密度に依存して、結晶化層上に周期的特徴を生成する。層のある面積が、光で照明される。検出器は、照明された面積から回折された光を検出し、検出された回折光から、層が暴露されるパルス中のエネルギー密度を判定するように配列される。光の第２の部分が、第２の群の周期的特徴によって回折され、光のそのような第２の部分もまた、検出器および処理電子機器によって検出されるように、層上に、第１の方向とある角度における第２の方向に、第２の群の周期的表面特徴をさらに有する。