发明名称 |
新規のポリマーおよびフォトレジスト組成物 |
摘要 |
New polymers are provided comprising (i) one or more covalently linked photoacid generator moieties and (ii) one or more photoacid-labile groups, wherein the one or more photoacid generator moieties are a component of one or more of the photoacid-labile groups. Preferred polymers of the invention are suitable for use in photoresists imaged at short wavelengths such as sub-200 nm, particularly 193 nm. |
申请公布号 |
JP5782283(B2) |
申请公布日期 |
2015.09.24 |
申请号 |
JP20110076478 |
申请日期 |
2011.03.30 |
申请人 |
ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC |
发明人 |
イマッド・アカド;コン・リュウ;チェン−バイ・スー |
分类号 |
G03F7/039;C08F22/24;G03F7/004 |
主分类号 |
G03F7/039 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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