发明名称 化学的機械的平坦化スラリーに有用な接触放出型カプセル
摘要 本発明は、粒子、化学ペイロード、及びポリマーコーティングを含む接触放出型カプセルに関し、粒子は化学ペイロードが含浸されており、化学ペイロードは、接触放出型カプセルが表面と接触し、剪断力によりポリマーコーティングが除去されて、化学ペイロードが粒子の外部に放出可能となるまで、ポリマーコーティングにより粒子の内部に保持される。接触放出型カプセルは、化学的機械的平坦化スラリーにおいて有用である。特に、接触放出型カプセルは、ポリマーでコーティングされたグリシン含浸シリカナノ粒子を含む場合があり、接触放出型カプセルは、水溶液に分散し、銅の化学的機械的平坦化プロセスで用いられる。銅の化学的機械的平坦化のためにスラリー中で接触放出型カプセルを使用すると、平坦化の効率が大幅に改善し、望ましくないエッチング及び腐食が低減し、分散安定性を改善させることができる。
申请公布号 JP2015528031(A) 申请公布日期 2015.09.24
申请号 JP20150520145 申请日期 2012.10.04
申请人 ジェネラル エンジニアリング アンド リサーチ,エル.エル.シー. 发明人 イーンフェルト,ロビン
分类号 C09K3/14;B24B37/00;H01L21/304 主分类号 C09K3/14
代理机构 代理人
主权项
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