发明名称 |
ドープされたSiO2スラリーの製造方法、ならびにそのSiO2スラリーの使用 |
摘要 |
本発明は、SiO2懸濁液と少なくとも1種のドープ溶液とを相互作用させる、ドープされたSiO2スラリーの製造方法であって、ここで、前記SiO2懸濁液および/または前記ドープ溶液が噴霧物として相互に作用し、その噴霧物の平均液滴径が10μm〜100μmの範囲にある前記製造方法に関する。本発明は、さらに、前記噴霧方法を用いてドープされたSiO2スラリーの、ドープされた石英ガラスの製造、特にレーザー活性石英ガラスの製造のための使用に関する。 |
申请公布号 |
JP2015527962(A) |
申请公布日期 |
2015.09.24 |
申请号 |
JP20150519041 |
申请日期 |
2013.06.25 |
申请人 |
ヘレーウス クヴァルツグラース ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフトHeraeus Quarzglas GmbH & Co. KG |
发明人 |
マリオ ズーフ;ゲアハート シェッツ;アンドレアス ラングナー |
分类号 |
C01B33/146;C03B20/00 |
主分类号 |
C01B33/146 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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