发明名称 ドープされたSiO2スラリーの製造方法、ならびにそのSiO2スラリーの使用
摘要 本発明は、SiO2懸濁液と少なくとも1種のドープ溶液とを相互作用させる、ドープされたSiO2スラリーの製造方法であって、ここで、前記SiO2懸濁液および/または前記ドープ溶液が噴霧物として相互に作用し、その噴霧物の平均液滴径が10μm〜100μmの範囲にある前記製造方法に関する。本発明は、さらに、前記噴霧方法を用いてドープされたSiO2スラリーの、ドープされた石英ガラスの製造、特にレーザー活性石英ガラスの製造のための使用に関する。
申请公布号 JP2015527962(A) 申请公布日期 2015.09.24
申请号 JP20150519041 申请日期 2013.06.25
申请人 ヘレーウス クヴァルツグラース ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフトHeraeus Quarzglas GmbH & Co. KG 发明人 マリオ ズーフ;ゲアハート シェッツ;アンドレアス ラングナー
分类号 C01B33/146;C03B20/00 主分类号 C01B33/146
代理机构 代理人
主权项
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