| 发明名称 | 硅片清洗剂 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种硅片清洗剂，由以下重量百分比的原料组成：氢氧化钾0.5～3％、碳酸钠1～3％、硅酸钠2～3％、脂肪醇聚氧乙烯(7)醚3～6％、全氟烷基乙氧基醚醇1～3％、四甲基氢氧化铵2～5％、余量为去离子水。本发明的硅片清洗剂，具有良好的去污、清洗性能，无刺激性气味，能够在硅片表面形成保护膜，抗氧化，使用周期长，能有效去除表面油脂及硅片内部金属杂质和粘附在硅片表面的尘埃和其它颗粒，对硅片腐蚀小。 | ||
| 申请公布号 | CN104928059A | 申请公布日期 | 2015.09.23 |
| 申请号 | CN201510243436.8 | 申请日期 | 2015.05.13 |
| 申请人 | 宁波高新区卓尔化工科技有限公司 | 发明人 | 袁峰 |
| 分类号 | C11D1/835(2006.01)I;C11D3/60(2006.01)I;C11D3/10(2006.01)I;C11D3/04(2006.01)I | 主分类号 | C11D1/835(2006.01)I |
| 代理机构 | 代理人 | ||
| 主权项 | 一种硅片清洗剂，由以下重量百分比的原料组成：氢氧化钾0.5～3％、碳酸钠1～3％、硅酸钠2～3％、脂肪醇聚氧乙烯(7)醚3～6％、全氟烷基乙氧基醚醇1～3％、四甲基氢氧化铵2～5％、余量为去离子水。 | ||
| 地址 | 315040 浙江省宁波市高新区江南路599号科技大厦4楼411-28-4 | ||