反蛋白石结构Co₃O₄@SiO₂纳米涂层材料的旋涂合成方法

摘要

反蛋白石结构Co₃O₄@SiO₂纳米涂层材料的旋涂合成方法，属于材料生产技术领域，本发明利用光子晶体排列自组装的有序规整性的特性，PS小球为原始模板，采用模板法沉积制备SiO₂@PS，然后采用六水合硝酸钴作为钴源，制成凝胶，采用旋涂法，制成反蛋白石结构四氧化三钴@二氧化硅纳米涂层，本发明操作简单，节能环保，条件易控。制备的反蛋白石结构四氧化三钴@二氧化硅纳米涂层具有极大的比表面积与纳米间隙。

主权项

反蛋白石结构Co₃O₄@SiO₂纳米涂层材料的旋涂合成方法，其特征在于包括如下步骤：1）将洁净的玻片置于浓硫酸和双氧水混合溶液中浸泡后干燥，得到亲水化处理后的玻片基质；    2）超声条件下，将亲水化处理后的玻片垂直放入正硅酸四乙酯和聚丙烯腈的混合溶液中，经陈化后取出，再经自然干燥，即得陈化的SiO₂@PS；3）以乙二醇和六水合硝酸钴在超声条件下混合均匀形成钴盐凝胶溶液，将陈化的SiO₂@PS玻片置于匀胶机上，以旋涂的方法，在陈化的SiO₂@PS玻片表面滴涂钴盐凝胶溶液，自然干燥后取出玻片，再将制好的玻片进行高温煅烧，再从玻片上分离出表层材料，即得反蛋白石结构的Co₃O₄@SiO₂纳米涂层材料。