发明名称 |
X射线分析装置 |
摘要 |
本发明涉及X射线分析装置。提供能以直接观察容易判别样品的高度位置相对于初级X射线的焦点位置是远还是近的判别而易于位置调整的X射线分析装置。具备:样品台,能设置样品;X射线源,对样品照射初级X射线;检测器,检测从被照射初级X射线的样品产生的次级X射线;位置调整机构,调整样品台与初级X射线的相对位置;第一光源,向初级X射线的焦点位置或以与焦点位置相同高度在水平方向上离焦点位置规定距离的规定位置照射第一光线;以及第二光源,向焦点位置或规定位置从与第一光线和初级X射线不同角度照射第二光线,第一光线和第二光线具有在照射到样品台或样品台上的样品时在样品台上或样品台上的样品上能彼此以目视辨别的视觉辨认性。 |
申请公布号 |
CN104931517A |
申请公布日期 |
2015.09.23 |
申请号 |
CN201510110487.3 |
申请日期 |
2015.03.13 |
申请人 |
日本株式会社日立高新技术科学 |
发明人 |
广濑龙介 |
分类号 |
G01N23/223(2006.01)I;G01B15/02(2006.01)I |
主分类号 |
G01N23/223(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
谢攀;张懿 |
主权项 |
一种X射线分析装置,其特征在于,具备:样品台,能设置样品;X射线源,对所述样品照射初级X射线;检测器,检测从被照射所述初级X射线的所述样品产生的次级X射线;位置调整机构,对所述样品台与所述初级X射线的相对位置进行调整;第一光源,朝向所述初级X射线的焦点位置或者以与所述焦点位置相同的高度在水平方向上离所述焦点位置规定距离的规定位置照射第一光线;以及第二光源,朝向所述焦点位置或者所述规定位置从与所述第一光线和所述初级X射线不同的角度照射第二光线,所述第一光线和所述第二光线具有在被照射到所述样品台或设置在所述样品台之上的所述样品时在所述样品台上或设置在所述样品台之上的所述样品上能彼此通过目视进行辨别的视觉辨认性。 |
地址 |
日本东京都 |