| 发明名称 | 一种PVD系统工艺参数的优化方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种PVD系统工艺参数的优化方法，所述方法包括：根据预沉积薄膜的厚度，得到预沉积所述薄膜所需的总沉积时间；将所述总沉积时间分为若干步，每步沉积后有冷却步骤，组成了若干个沉积/冷却循环；根据所述薄膜沉积过程中的沉积温度的上升趋势，在所述沉积温度上升慢的步骤中设定较短的冷却时间，在所述沉积温度上升较快的步骤中设定较长的冷却时间。根据本发明的PVD系统工艺参数的优化方法，改善冷却效果，控制沉积薄膜由于温度高而引起的晶粒长大问题，改善WTW厚度控制，进而提高产品性能和良品率。 | ||
| 申请公布号 | CN104928644A | 申请公布日期 | 2015.09.23 |
| 申请号 | CN201410101122.X | 申请日期 | 2014.03.18 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 | 发明人 | 陈怡骏;华宇;游宽结;吴秉寰;胡凯 |
| 分类号 | C23C14/54(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/54(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人 | 董巍;高伟 |
| 主权项 | 一种PVD系统工艺参数的优化方法，包括：根据预沉积薄膜的厚度，得到预沉积所述薄膜所需的总沉积时间；将所述总沉积时间分为若干步，每步沉积后有冷却步骤，组成了若干个沉积/冷却循环；根据所述薄膜沉积过程中的沉积温度的上升趋势，在所述沉积温度上升慢的步骤中设定较短的冷却时间，在所述沉积温度上升较快的步骤中设定较长的冷却时间。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 | ||