一种EUV光源污染物收集装置

摘要

本发明公开了一种EUV光源污染物收集装置，应用于X射线或者EUV发光装置，其中，所述EUV发光装置包括：一激光源，一真空腔，一集光镜，一喷嘴，其中，EUV光源污染物收集装置包括：一收集罩，收集罩位于真空腔内，用于在激光束打击靶材后收集靶材碎片，减少对EUV光源及其相连光刻机的污染；一储存装置，储存装置位于真空腔的下方，储存装置用于收集靶材和/或污染物。本发明的EUV光源污染物收集装置能够减少靶材碎片等污染物对EUV光源及其相连光刻机的污染，提高其使用寿命，同时降低污染物对EUV光的吸收，大幅度提高EUV光源的效率。本发明能够回收并循环利用靶材，因此能够大幅度提高靶材的利用效率。

主权项

一种EUV光源污染物收集装置，应用于EUV发光装置，其特征在于，其中，所述EUV发光装置包括：一激光源，所述激光源用于发生激光束，打击靶材，产生等离子体，发出X射线或EUV光；一真空腔，所述真空腔用于保持真空环境，提供EUV光的存在环境；一集光镜，所述集光镜位于所述真空腔内，用于聚集所述EUV光；一喷嘴，所述喷嘴位于所述真空腔的上部，用于提供激光等离子体的靶材；其中，所述EUV光源污染物收集装置包括：一收集罩，所述收集罩位于所述真空腔内，用于在所述激光束冲击所述靶材后收集污染物；一储存装置，所述储存装置位于所述真空腔的下方，用于收集所述靶材和/或所述污染物；其中，所述储存装置还包括：一储存槽，所述储存槽用于储存所述靶材和/或所述污染物；一防逆流装置，所述防逆流装置位于所述储存槽与所述收集槽的连接处，用于防止储存槽内的蒸汽倒流入所述真空腔中。