发明名称 |
用于在构件上形成凸缘的设备和方法 |
摘要 |
介绍一种用于在构件上形成凸缘的设备。设备包括设置用于将构件放置在其上的模子、形成工具和管状囊。形成工具组装成利用延伸到限定在模子和形成工具之间的空间中的第一部分保持构件。管状囊沿着囊的纵向尺寸围绕其横截面具有不均匀的壁厚度。囊设置在限定在模子中的梯级中,并且构造成在囊膨胀时,对延伸到空间中的部分施加形成力,以在构件上形成凸缘。还提供了一种用于在构件上形成凸缘的方法。 |
申请公布号 |
CN104924630A |
申请公布日期 |
2015.09.23 |
申请号 |
CN201510123447.2 |
申请日期 |
2015.03.20 |
申请人 |
通用电气公司 |
发明人 |
M.E.费米利;N.J.克雷;M.A.拉德巴赫;A.J.小瓦利;C.D.卡迈克尔 |
分类号 |
B29C70/44(2006.01)I |
主分类号 |
B29C70/44(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
严志军;谭祐祥 |
主权项 |
一种用于在构件上形成凸缘的设备,其包括:设置用于将所述构件布置在其上的模子;形成工具,其组装成利用延伸到限定在所述模子和所述形成工具之间的空间中的第一部分保持所述构件;以及管状囊,其设置在限定在所述模子中的梯级中,并且构造成对延伸到所述空间中的所述部分施加形成力,以在所述囊膨胀时,在所述构件上形成所述凸缘,其中,所述囊沿着所述囊的纵向尺寸围绕其横截面具有不均匀的壁厚度。 |
地址 |
美国纽约州 |