研磨用组合物以及使用其的研磨方法

摘要

本发明的第1方式的研磨用组合物含有含氮化合物和磨粒、pH为1～7。研磨用组合物中所含的含氮化合物优选具有通式(1)：R1-N(-R2)-R3(其中，R1、R2、R3分别表示烷基或者在烷基上附加特性基团得到的基团，R1～R3中的2个可构成杂环的一部分，R1～R3中的2个还可以相同并与剩余的1个一起构成杂环的一部分)所示的结构，或者为羧基甜菜碱型两性表面活性剂、磺基甜菜碱型两性表面活性剂、咪唑啉型两性表面活性剂、和氧化胺型两性表面活性剂中的任一种。本发明的第2方式的研磨用组合物含有水溶性高分子和磨粒，不含氧化剂，pH为1～8。

主权项

一种研磨用组合物，其是用于选自硅单晶、无定形硅和多晶硅中的单体硅的研磨的研磨用组合物，含有含氮化合物和磨粒，所述磨粒为二氧化硅，pH为1～7，上述含氮化合物为1‑甲基‑2‑吡咯烷酮或1‑乙基‑2‑吡咯烷酮，所述研磨用组合物不含氧化剂。