| 发明名称 | 阵列基板及其制作方法、显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种阵列基板的制作方法，包括：形成包括像素电极的图形；所述制作方法还包括在形成包括像素电极的图形的步骤之后进行的：形成包括有源层的图形。相应地，本发明还提供一种阵列基板和一种显示装置。本发明的阵列基板制作过程中，有源层上不会残留导电物，从而减少漏电流的产生，进而提高阵列基板的质量，改善显示装置的显示效果。 | ||
| 申请公布号 | CN104934448A | 申请公布日期 | 2015.09.23 |
| 申请号 | CN201510405418.5 | 申请日期 | 2015.07.10 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 张贺攀;艾青南;李跃 |
| 分类号 | H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I;H01L27/15(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 彭瑞欣;陈源 |
| 主权项 | 一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：形成包括像素电极的图形；所述制作方法还包括在形成包括像素电极的图形的步骤之后进行的：形成包括有源层的图形。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||